SENTECH仪器开发,制造和销售世界上先进的仪器设备,包括等离子刻蚀等离子沉积原子层沉积以及薄膜测量仪器,包括光谱椭偏仪反射膜厚仪激光椭偏仪,还有光伏测量仪器

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201919日至11日,SENTECH仪器在中国北京举办了一次关于椭偏测量的研习班。国内众多科学家和用户都对SENTECH创新的薄膜测量仪器有着浓厚的兴趣。也正是因为这样,SENTECH仪器经常在中国组织面向用户应用的研讨会和研习班。这是为了向现有用户和潜在客户展示测量应用及其使用可能性。

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SENTECH等离子技术研讨会在上海成功举办

SENTECH是等离子刻蚀、等离子沉积、原子层沉积和原位测量设备的专业制造商,介绍了在刻蚀硅和III-V化合物、在ICPECVD用介质膜沉积用作器件钝化、在ALD光学和高频器件应用方面的新的成果。以及先进的自动化。

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ICP等离子体刻蚀:

Cryogenic etching of silicon, courtesy of TU Braunschweig, GermanyStamps for nanoimprint lithography in SiO2, courtesy of FSU Jena, GermanyPlasma etching result of VCSEL structure using Ar-Cl2 gas mixtureEtching process result of Si-DRIE (SF6-C4F8-O2) post O2 cleanPlasma etching result of SF6-C4F8 based gas chopping process(IAP-Jena)ICP PECVD TEOS SiO2 film step coverage over Si ridge(IISB-Erlangen)ICP RIE result of SF6O2-C4F8-based Si gas chopping process

近期活动:

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